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                製品詳細

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                縦型熱処理爐/
                DF1600

                ◆資料ダウンロード
                スペックシート(第1版)

                本裝置は、半導體製造工程における熱処理工程に使用する縦型熱処理爐(拡散爐)です。 現在、半導體製造分野においては、大量生産方式から多品種少量生産方式へと変化してきています。 本裝置では、小容量、高速処理が可能であり、かつ、既存のクリーンルームへの設置が可能なサイズとなっております。
                特徴

                ■高速昇降溫が可能(FTP対応)
                縦型抵抗加熱方式を採用した獨特なヒータにより、高速昇溫?高速高溫を可能にし、高速昇降溫処理?通常処理を1臺でこなします。

                ■弊社獨自のウェーハ移載システム
                弊社獨自のウェーハ移載システムを用いることにより、信頼性の高い駆動部となっています。

                ■ピッチ変換機構搭載
                ボート側溝ピッチを任意のピッチに変換してウェーハ移載が可能です。(設定範囲4.76~9.52mm)ウェーハの搬送はカセットToカセットで行われます。

                ■生産性、操作性を重視した裝置
                操作部にタッチパネル付きTFTパネルを採用し、生産性、操作性の良い裝置となっております。

                ■ウェーハの低溫入爐が可能
                ウェーハの低溫入爐が可能です。大気の巻き込みの影響を著しく低減します。

                ■安全かつ容易な反応管の脫著
                自動昇降機を利用し、より安全かつ容易に反応管の脫著が行えます。

                ■獨自の溫度調節システム
                ヒータ及び溫度調節システムに獨自の方式を採用しているため、溫度リカバリー特性が飛躍的に向上しています。

                ■メンテナンス性
                複數臺配置した際にも、メンテナンス性、操作性が損なわれないよう配慮された設計になっております。

                仕様
                ●基本仕様
                構造縦型下方開放方式
                処理ウェーハ徑φ100mm~φ200mm
                処理方式バッチ処理
                50枚/????処理
                カセット収納プロセス、モニタ、ダミーを含めて最大9カセット
                プロセスWET、DRY、ANNEAL、BAKE etc
                使用ガスN2、O2、H2 etc
                ????????????5枚/1枚切替移載
                昇降溫レート 昇溫 100℃/min max
                降溫  50℃/min max
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